Produktionseinführung
Beim Prozess der vertikalen kontinuierlichen Gleichstromverkupferung muss die Anode sowohl die Anforderungen an die Lebensdauer erfüllen als auch den Verbrauch organischer Zusatzstoffe minimieren, um die Kosten für den Mittelverbrauch zu senken. Obwohl herkömmliche Titananoden auf Iridium--Basis die Anforderungen an die Lebensdauer erfüllen können, verbrauchen sie eine große Menge an Aufheller. Daher hat Zhongrui Guoneng (Dongguan) Co., Ltd. den Prozess und die Formel herkömmlicher Titananoden auf Iridium--Basis verbessert und eine spezielle Titananode für die vertikale Verkupferung von Leiterplatten mit reduziertem Verbrauch an organischen Additiven geschaffen, während gleichzeitig die Anforderungen an die Lebensdauer erfüllt werden.
Typische elektrolytische Prozessparameter
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Elektrolyt |
H2ALSO4:50-100g/L,Cu: 60-120g/L,CI-:40-55ppm |
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Aktuelle Dichte |
100-500A/m2 |
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Temperatur |
0-35 Grad |
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Lebensdaueranforderung |
Anodentyp - Spezielle Titananode auf Iridium--Basis, mehr als 1 Jahr |
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Vorteile |
Gleichmäßige Beschichtung, lange Lebensdauer, Energie-einsparung, hohe Stromdichte |
Vorteile gegenüber herkömmlichen Galvanisierungsanoden
1. Niedrige Tankspannung, geringer Energieverbrauch
2.Geringe Elektrodenverlustrate, stabile Abmessungen
3. Gute Korrosionsbeständigkeit der Elektrode, Nichtlöslichkeit und keine Verunreinigung der Badflüssigkeit, wodurch eine zuverlässigere Beschichtungsleistung gewährleistet wird.
4. Die Titananode verwendet neue Materialien und Strukturen, wodurch ihr Gewicht erheblich reduziert und der tägliche Betrieb erleichtert wird.
5. Lange Lebensdauer und die Basis kann wiederverwendet werden, wodurch Kosten gespart werden.
6. Das Überpotential der Sauerstoffentwicklung ist etwa 0,5 V niedriger als bei unlöslichen Anoden aus Bleilegierungen, wodurch die Tankspannung und der Energieverbrauch reduziert werden.
Prüfung der elektrochemischen Leistung und Lebensdauer (Referenzstandard HG/T2471-2007 Q/CLTN-2012)
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Name |
Iridium-Tantal auf Titanbasis |
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Verbesserter Gewichtsverlust |
Weniger als oder gleich 10 mg |
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Polarisationsrate |
<40 % |
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Sauerstoffentwicklungspotential |
<1.23 V |
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Testbedingung |
1 mol/LH2ALSO4 |
Anwendung
Es kann für Leiterplatten (PCB), kupferkaschierte Laminate (CCL) usw. verwendet werden und wird häufig in aufstrebenden horizontalen und vertikalen Kupferbeschichtungsindustrien in Branchen wie Haushaltsgeräten, Kommunikation und der 3C-Industrie eingesetzt.
FAQ
Was sind die Hauptvorteile der vertikalen kontinuierlichen DC-Verkupferung während des Galvanikprozesses?
Erstens verwendet diese Methode eine Gleichstromversorgung, wodurch der Strom gleichmäßiger wird und eine gleichmäßigere Beschichtungsdicke ermöglicht wird. Zweitens macht der vertikale kontinuierliche Betrieb den gesamten Galvanikprozess automatisierter und kontinuierlicher und verbessert so die Produktionseffizienz. Darüber hinaus wird durch die vertikale Bewegung der Beschichtungslösung ein besserer Kontakt mit der Oberfläche des Werkstücks erreicht, was zu einer gleichmäßigeren und dichteren Beschichtung führt und so die Produktqualität und Korrosionsbeständigkeit verbessert. Diese Vorteile machen die vertikale kontinuierliche Gleichstromverkupferung zu einer fortschrittlichen Technologie in der Galvanikindustrie.
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